光刻設(shè)備國內(nèi)唯一,北方華創(chuàng)要并購的這家公司不簡(jiǎn)單
一場(chǎng)并購,拉開了北方華創(chuàng)(002371.SZ)進(jìn)軍光刻設(shè)備市場(chǎng)的號(hào)角。
2025年3月10日晚間,北方華創(chuàng)發(fā)布公告稱,擬受讓沈陽先進(jìn)制造技術(shù)產(chǎn)業(yè)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“先進(jìn)制造”)持有的芯源微(688037.SH)9.49%的股份,交易金額為16.87億元。
同時(shí),北方華創(chuàng)還表示,沈陽中科天盛自動(dòng)化技術(shù)有限公司(以下簡(jiǎn)稱“中科天盛”) 擬轉(zhuǎn)讓所持芯源微8.41%的股份,公司將積極通過參與公開掛牌競(jìng)買等方式繼續(xù)增持芯源微股份并取得對(duì)其控制權(quán)。

據(jù)了解,截至2024年9月30日,芯源微第一大股東遼寧科發(fā)實(shí)業(yè)有限公司持有芯源微10.61%的股權(quán)。如果北方華創(chuàng)能夠順利完成上述兩大交易,北方華創(chuàng)將持有芯源微17.9%的股份,成為其第一大股東。
北方華創(chuàng)強(qiáng)調(diào),此次交易的目的是為了加快推動(dòng)公司戰(zhàn)略落實(shí),發(fā)揮協(xié)同效應(yīng)。
國內(nèi)唯一的光刻設(shè)備龍頭
眾所周知,光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備和薄膜設(shè)備,是半導(dǎo)體領(lǐng)域的三大主要設(shè)備。目前,在刻蝕設(shè)備和薄膜設(shè)備領(lǐng)域,北方華創(chuàng)在國內(nèi)市場(chǎng),已經(jīng)是行業(yè)龍頭企業(yè)了。但在光刻設(shè)備領(lǐng)域,北方華創(chuàng)的布局較為薄弱。如果我們以“光刻”二字為關(guān)鍵字在北方華創(chuàng)2024年半年報(bào)中進(jìn)行搜索的話,找不到任何內(nèi)容。
但如果北方華創(chuàng)能夠控股芯源微,情況就不一樣了!
芯源微公告顯示,公司是目前國內(nèi)唯一可以提供量產(chǎn)型前道涂膠顯影機(jī)的廠商,經(jīng)過長(zhǎng)期的技術(shù)積累和在客戶端的驗(yàn)證及量產(chǎn)應(yīng)用,目前已完成在前道晶圓加工環(huán)節(jié) 28nm 及以上工藝節(jié)點(diǎn)的全覆蓋,14納米及以下先進(jìn)制程工藝也在有序驗(yàn)證中。
此外,為應(yīng)對(duì)高端光刻機(jī)日益提升的產(chǎn)能需求,芯源微最新一代超高產(chǎn)能前道涂膠顯影機(jī)FTEX的研發(fā)工作也在高效推進(jìn)中,公司將快速推進(jìn)其驗(yàn)證和產(chǎn)業(yè)化進(jìn)程。

那么什么是涂膠顯影設(shè)備?它有什么用處呢?據(jù)了解,涂膠顯影設(shè)備是半導(dǎo)體產(chǎn)線上唯一與光刻機(jī)聯(lián)機(jī)作業(yè)的核心設(shè)備,它與光刻機(jī)高度綁定。簡(jiǎn)單來說,涂膠就是把光刻膠涂抹到半導(dǎo)體晶圓上。而后,光刻機(jī)對(duì)光刻膠進(jìn)行曝光,在曝光后由顯影設(shè)備進(jìn)行光刻圖案的顯影??梢哉f,涂膠顯影設(shè)備的好壞,直接關(guān)系到光刻的良率!
綜上所述,如果北方華創(chuàng)能夠成功入主芯源微,那么北方華創(chuàng)在光刻設(shè)備、刻蝕設(shè)備和薄膜設(shè)備三大設(shè)備領(lǐng)域,都將是國內(nèi)的龍頭企業(yè)。
當(dāng)然,除了涂膠顯影設(shè)備,芯源微在其他半導(dǎo)體設(shè)備領(lǐng)域,也有可圈可點(diǎn)之處。
芯源微曾發(fā)布公告稱,2024年上半年,公司臨時(shí)鍵合機(jī)、解鍵合機(jī)商業(yè)化推廣和驗(yàn)證進(jìn)展順利,目前在手量產(chǎn)或驗(yàn)證性訂單已十余臺(tái),已全面覆蓋國內(nèi)主要2.5D、3D封測(cè)及HBM客戶。目前該產(chǎn)品已完成部分客戶驗(yàn)證并獲得重復(fù)性訂單,在驗(yàn)機(jī)臺(tái)工藝指標(biāo)表現(xiàn)優(yōu)秀。
此外,2024年8月底,芯源微戰(zhàn)略新產(chǎn)品-前道單片式高溫硫酸清洗機(jī)在上海臨港廠區(qū)啟運(yùn)發(fā)往國內(nèi)重要邏輯客戶開展工藝驗(yàn)證。據(jù)悉,高溫硫酸清洗工藝被業(yè)界公認(rèn)為28nm/14nm制程性能要求最高的工藝之一,也是業(yè)內(nèi)最具難度和挑戰(zhàn)的濕法工藝,芯源微研發(fā)的該款設(shè)備有望打破國外龍頭對(duì)高溫硫酸清洗技術(shù)的絕對(duì)壟斷,機(jī)臺(tái)性能及工藝技術(shù)致力于達(dá)到國際先進(jìn)水平。
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